仪器详情

  • 反应离子刻蚀机
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  • 制造厂商：牛津仪器等离子技术公司
  • 购置日期：2016-07-22
  • 型号：Plasmapor system100
  • 生产国别：
中国科学院上海技术物理研究所
进机构
  • 功能/应用范围： 设备主要组成：腔室、射频源、等离子源真空系统、气路系统、预真空室、控制系统与软件等； 主要用于二氧化硅及其他氧化物的低速率、低损伤刻蚀等用途
  • 主要附件： 设备主要组成：腔室、射频源、等离子源真空系统、气路系统、预真空室、控制系统与软件等；
  • 主要技术指标： 最大刻蚀尺寸：4英寸； 最低刻蚀速率：≤0.5nm/s; 可是不均匀性：<5%； 重复性：≤±2%
  • 技术特色：

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