- 功能/应用范围： 1.材料表形貌分析；2.材料表面元素的安性和定量分析；3。材料表面元素的线扫描和面扫描；4.小于1微米的图形和器件制作。
- 主要附件： EDAX能谱仪 Raith Elphy Quantum电子束曝光设备
- 主要技术指标： 电子束扫描系统：分辨率达4nm，真空样品室：样品直径达到250mm，操作台：高精度5轴平台，重复精度达到1um，适于非导电材料及放气材料，电子束刻蚀，本件和软件Windows 98 or NT操作系统；加速电压：200V-30KV，连续可调；最大束流：22nA；分辨率1.0nm@15KV；2.0nm@1KV能谱仪分辨率130eV，可探测原子序数为11-92。
- 技术特色： 1.0nm分辨率，原子序数11-92元素定量分析，亚微米图形和器件制作。